Detoksykująca maska z białą glinką CLOCHEE
Produkt niedostępny
Oferta ważna w terminie 23.01-24.01.2021 r. z wyłączeniem kosztów przesyłki. Oferta uprawnia do zakupu nieprzecenionych produktów z rabatem 20% przy zakupie do 370 zł lub z rabatem 25% przy zakupie powyżej 370 zł. Nie łączy się z innymi promocjami – w tym rabatami, kuponami, ofertami specjalnymi, a także nie dotyczy zakupu produktów marek: Pat&Rub, Huda Beauty, Zoeva, Sephora Collection, Fenty Beauty by Rihanna, Fenty Skin, Anastasia Beverly Hills, Sephora Favourites, Phlov by Anna Lewandowska, Respire, Tarte, Tata Harper, Kayali by Huda Beauty, Wishful, WOŚP, 111SKIN, Augustinus Bader, RMS Beauty, Art Meets Art., Clean, Aerin, zapachów w nowych niższych cenach, kart upominkowych oraz usług.
-
Opis
Maska wykazuje działanie detoksykujące, ujędrniające oraz przeciwzmarszczkowe. Wygładza jej strukturę, nadaje blask i wycisza. Szczególnie kierowana dla skór wrażliwych, szarych, zmęczonych i problematycznych.
Jak używać ?
Na oczyszczoną skórę twarzy (omijając okolice oczu i ust), szyi i dekoltu nałożyć maskę na 10-15min. Zmyć letnią wodą, zastosować krem pielęgnacyjny. Zabieg powtarzać 2-3 razy w tygodniu. -
Składniki
Aqua**, Kaolin**, Myristyl Myristate*, Caprylic/Capric Triglyceride*, Aloe Barbadensis Leaf Juice*, Glyceryl Stearate Citrate*, Cetearyl Alcohol*, Glycerin*, Simmondsia Chinensis (Jojoba) Seed Oil*, Ribes Nigrum Bud Extract**, Melissa Officinalis Extract**, Alcohol***, Tocopherol***, Ascorbyl Palmitate***, Ascorbic Acid***, Phytic Acid**, Sodium Citrate**, Hydroxyethyl Acrylate/Sodium Acryloyldimethyl Taurate Copolymer***, Xanthan Gum**, Dehydroacetic Acid***, Benzyl Alcohol***, Sodium Benzoate***, Sodium Hydroxide**, Citric Acid***, Parfum***, Lilial***, Hexyl Cinnamal***, Hydroxycitronellal***, Linalool***
*certified ingredients, ** natural raw material, ***approved for natural cosmetics
Lista składników w produkcie może różnić się od tych podanych na stronie. Prosimy o sprawdzenie listy składników na opakowaniu produktu. - Opinie
