Sephora
Pielęgnacja Twarzy
Maseczki do twarzy
Maseczki w kremie
  • Rapid Relief Sulfur Mask - Oczyszczająca maska do twarzy z siarką i glinką, MURAD

Rapid Relief Sulfur Mask - Oczyszczająca maska do twarzy z siarką i glinką

0 opinie
Rapid Relief Sulfur Mask - Oczyszczająca maska do twarzy z siarką i glinką
Zwalczająca niedoskonałości, przynosząca szybką ulgę maska z glinką Rapid Relief Sulfur Mask zaczyna … Zobacz więcej
319,00 zł (1)
431,08 zł / 100ml
74 ml 74 ml
  • 74 ml
    74 ml

    • 2 ZŁ = 1 Punkt
    250 punktów = 1 nagroda do wyboru

    Bezpieczne płatności

    • visa
    • mastercard
    710249
    HAPPY

    Promocja obowiązuje od 09.06.2025r. do 12.06.2025r. w aplikacji Sephora. Uprawnia do otrzymania rabatu -23% na zapachy i produkty do pielęgnacji, przy ich zakupie za min. 279 zł. Oferta obowiązuje z kodem: HAPPY . Oferta nie obejmuje kosztów przesyłki i nie łączy się z innymi promocjami – w tym rabatami, kuponami, ofertami specjalnymi, a także nie dotyczy zakupu kart upominkowych oraz usług. Oferta nie dotyczy produktów marek znajdujących się pod linkiem: https://www.sephora.pl/wykluczenia. Promocja jest dostępna w opcji Click&Collect.

    • Opis
      Zwalczająca niedoskonałości, przynosząca szybką ulgę maska z glinką Rapid Relief Sulfur Mask zaczyna chłodzić i eliminować wypryski w 10 minut.

      Maska łagodzi zaczerwienienia i nie przesusza skóry.

      Jedwabiście gładka formuła łatwo się spłukuje, pozostawiając skórę ukojoną i odświeżoną.

      Mikroskładniki zawarte w odświeżającej formule pomagają wniknąć w pory, aby usunąć zanieczyszczenia i ukoić skórę.

      GŁÓWNE SKŁADNIKI:

      - Siarka pomaga usunąć niedoskonałości i zapobiega ich powstawaniu

      - Kwas salicylowy złuszcza i wygładza strukturę skóry

      - Glinka kaolinowa i cynk pochłaniają nadmiar sebum oraz zmniejszają widoczność porów

      - Naturalny ekstrakt z torfu nawilża i koi skórę jednocześnie redukując zaczerwienienia

      - Olejek eukaliptusowy zapewnia naturalny, przyjemny zapach
      Zobacz więcej
    • Zalecenia stosowania
    • Składniki
    • Opis
    • Zalecenia stosowania
    • Składniki
    Zwalczająca niedoskonałości, przynosząca szybką ulgę maska z glinką Rapid Relief Sulfur Mask zaczyna chłodzić i eliminować wypryski w 10 minut.

    Maska łagodzi zaczerwienienia i nie przesusza skóry.

    Jedwabiście gładka formuła łatwo się spłukuje, pozostawiając skórę ukojoną i odświeżoną.

    Mikroskładniki zawarte w odświeżającej formule pomagają wniknąć w pory, aby usunąć zanieczyszczenia i ukoić skórę.

    GŁÓWNE SKŁADNIKI:

    - Siarka pomaga usunąć niedoskonałości i zapobiega ich powstawaniu

    - Kwas salicylowy złuszcza i wygładza strukturę skóry

    - Glinka kaolinowa i cynk pochłaniają nadmiar sebum oraz zmniejszają widoczność porów

    - Naturalny ekstrakt z torfu nawilża i koi skórę jednocześnie redukując zaczerwienienia

    - Olejek eukaliptusowy zapewnia naturalny, przyjemny zapach

    Nałóż równomierną warstwę na oczyszczoną skórę. Pozostaw na skórze do 10 minut.
    Spłucz i osusz. Stosuj 2 do 3 razy w tygodniu.

    Ostrzeżenie: Unikać kontaktu z oczami.

    WATER/AQUA/EAU, KAOLIN, SULFUR, ISOPENTYLDIOL, BENTONITE, PEAT EXTRACT, ZINC OXIDE, PROPANEDIOL, GLYCERIN, CETEARYL ALCOHOL, CETYL ALCOHOL, CETYL RICINOLEATE, GLYCERYL STEARATE SE, UREA, YEAST AMINO ACIDS, TREHALOSE, INOSITOL, TAURINE, BETAINE, ALLANTOIN, SALICYLIC ACID, DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE, ZINGIBER OFFICINALE (GINGER) ROOT EXTRACT, BISABOLOL, EUCALYPTUS GLOBULUS LEAF OIL, HYDROXYACETOPHENONE, ETHYLHEXYLGLYCERIN, COCO-GLUCOSIDE, ACACIA SENEGAL GUM, XANTHAN GUM, CARBOMER, TETRASODIUM GLUTAMATE DIACETATE, CITRIC ACID, DEHYDROACETIC ACID, CHLORPHENESIN

    Lista składników w produkcie może różnić się od tych podanych na stronie. Prosimy o sprawdzenie listy składników na opakowaniu produktu.

    Opinie klientów

    Filtruj po Najnowsze

    • Najnowsze
    • Najstarsze
    • Najwyższa ocena do najniższej oceny
    • Najniższa ocena do najwyższej oceny

    Filtruj po Najnowsze

    • Najnowsze
    • Najstarsze
    • Najwyższa ocena do najniższej oceny
    • Najniższa ocena do najwyższej oceny

    Regulamin dodawania opinii

    ODKRYJ MARKĘ
    MURAD
    Marka założona w 1989 roku przez Doktora Howarda Murada, który jest cenionym na świecie dermatologiem i farmaceutą. Jego celem jest dzielenie się przełomowymi formułami z dziedziny pielęgnacji skóry, które tak skutecznie oddziałowują na skórę, że niepotrzebna jest interwencja chirurga plastycznego. 30 lat pracy i badań klinicznych zaowocowało 19 unikatowymi patentami. Doktor Murad jest cenionym specjalistą w dziedzinie nawilżania skóry, a swoją pozycję ugruntował prowadząc pionierskie badania pod nazwą The Science of Cellular Water. Murad to ceniona marka o ugruntowanej międzynarodowo pozycji i rekomendowana przez ponad 30 000 specjalistów na całym świecie.
    Rapid Relief Sulfur Mask - Oczyszczająca maska do twarzy z siarką i glinką image

    murad

    Rapid Relief Sulfur Mask - Oczyszczająca maska do twarzy z siarką i glinką