Rapid Relief Sulfur Mask - Oczyszczająca maska do twarzy z siarką i glinką
Bezpieczne płatności
Promocja obowiązuje od 09.12.2023 r. do 11.12.2023 r. na sephora.pl i w aplikacji. Uprawnia do otrzymania rabatu -15% przy zakupach za min. 199 zł lub rabatu -20% przy zakupach za min. 199 zł w aplikacji. Oferta obowiązuje z kodem: PREZENT. Oferta nie obejmuje kosztów przesyłki i nie łączy się z innymi promocjami – w tym rabatami, kuponami, ofertami specjalnymi, a także nie dotyczy zakupu kart upominkowych oraz usług. Oferta nie dotyczy produktów marek znajdujących się pod linkiem: https://www.sephora.pl/wykluczenia. Promocja jest dostępna w opcji Click&Collect.
-
Opis
Zwalczająca niedoskonałości, przynosząca szybką ulgę maska z glinką Rapid Relief Sulfur Mask zaczyna chłodzić i eliminować wypryski w 10 minut.
Maska łagodzi zaczerwienienia i nie przesusza skóry.
Jedwabiście gładka formuła łatwo się spłukuje, pozostawiając skórę ukojoną i odświeżoną.
Mikroskładniki zawarte w odświeżającej formule pomagają wniknąć w pory, aby usunąć zanieczyszczenia i ukoić skórę.
GŁÓWNE SKŁADNIKI:
- Siarka pomaga usunąć niedoskonałości i zapobiega ich powstawaniu
- Kwas salicylowy złuszcza i wygładza strukturę skóry
- Glinka kaolinowa i cynk pochłaniają nadmiar sebum oraz zmniejszają widoczność porów
- Naturalny ekstrakt z torfu nawilża i koi skórę jednocześnie redukując zaczerwienienia
- Olejek eukaliptusowy zapewnia naturalny, przyjemny zapach
-
Zalecenia stosowania
Nałóż równomierną warstwę na oczyszczoną skórę. Pozostaw na skórze do 10 minut.
Spłucz i osusz. Stosuj 2 do 3 razy w tygodniu.
Ostrzeżenie: Unikać kontaktu z oczami. -
Składniki
WATER/AQUA/EAU, KAOLIN, SULFUR, ISOPENTYLDIOL, BENTONITE, PEAT EXTRACT, ZINC OXIDE, PROPANEDIOL, GLYCERIN, CETEARYL ALCOHOL, CETYL ALCOHOL, CETYL RICINOLEATE, GLYCERYL STEARATE SE, UREA, YEAST AMINO ACIDS, TREHALOSE, INOSITOL, TAURINE, BETAINE, ALLANTOIN, SALICYLIC ACID, DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE, ZINGIBER OFFICINALE (GINGER) ROOT EXTRACT, BISABOLOL, EUCALYPTUS GLOBULUS LEAF OIL, HYDROXYACETOPHENONE, ETHYLHEXYLGLYCERIN, COCO-GLUCOSIDE, ACACIA SENEGAL GUM, XANTHAN GUM, CARBOMER, TETRASODIUM GLUTAMATE DIACETATE, CITRIC ACID, DEHYDROACETIC ACID, CHLORPHENESIN


murad
Rapid Relief Sulfur Mask - Oczyszczająca maska do twarzy z siarką i glinką