Rapid Relief Sulfur Mask - Oczyszczająca maska do twarzy z siarką i glinką

Bezpieczne płatności
Promocja obowiązuje od 05.06.2025r. do 08.06.2025r. (lub do wyczerpania zapasów) w aplikacji Sephora. Uprawnia do otrzymania rabatu -50% na drugi, tańszy produkt. Oferta obowiązuje z kodem: APP. Oferta nie obejmuje kosztów przesyłki i nie łączy się z innymi promocjami – w tym rabatami, kuponami, ofertami specjalnymi, a także nie dotyczy zakupu kart upominkowych oraz usług. Oferta nie obejmuje produktów marek, których lista znajduje się na https://www.sephora.pl/wykluczenia. Promocja jest dostępna w opcji Click&Collect. W przypadku zwrotu produktów objętych promocją, należy zwrócić całe zamówienie.
-
Opis
Zwalczająca niedoskonałości, przynosząca szybką ulgę maska z glinką Rapid Relief Sulfur Mask zaczyna chłodzić i eliminować wypryski w 10 minut.
Maska łagodzi zaczerwienienia i nie przesusza skóry.
Jedwabiście gładka formuła łatwo się spłukuje, pozostawiając skórę ukojoną i odświeżoną.
Mikroskładniki zawarte w odświeżającej formule pomagają wniknąć w pory, aby usunąć zanieczyszczenia i ukoić skórę.
GŁÓWNE SKŁADNIKI:
- Siarka pomaga usunąć niedoskonałości i zapobiega ich powstawaniu
- Kwas salicylowy złuszcza i wygładza strukturę skóry
- Glinka kaolinowa i cynk pochłaniają nadmiar sebum oraz zmniejszają widoczność porów
- Naturalny ekstrakt z torfu nawilża i koi skórę jednocześnie redukując zaczerwienienia
- Olejek eukaliptusowy zapewnia naturalny, przyjemny zapach
- Zalecenia stosowania
- Składniki


murad
Rapid Relief Sulfur Mask - Oczyszczająca maska do twarzy z siarką i glinką